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主要用途
主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研
制和生产。
由于本机找平机构先进，找平力小、使本机适合硅片、玻璃片、陶瓷片、铜片、不锈钢片、宝石片等的曝光。
工作方式
本机为一次性光刻曝光
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C-43型国产光刻机 高精度光刻机生产厂家 现货
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C-43型国产光刻机 高精度光刻机生产厂家 现货
详细信息 主要用途 主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研 制和生产。 由于本机找平机构先进，找平力小、使本机适合硅片、玻璃片、陶瓷片、铜片、不锈钢片、宝石片等的曝光。 工作方式 本机为一次性光刻曝光 搜索 复制 共0条 相关评论 |