点击图片查看原图
本设备是我公司专门针对各大专院校及科研单位对光刻机的使用特性研发的一种精密光刻机，它 主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。
二、 主要性能指标
1. 有三种版夹盘,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"方形掩板。对版的厚度无特殊要求（1～4mm皆可）。
2. 设有相对应的真空吸附基片的“承片台”三个，分别适用于4"，3"，2"片。对于非标准片或碎片，只要堵塞相应的小孔，同样能真空吸咐。
3. 照明：
光源：采用GCQ200Z型超高压水银直流汞灯。
照明范围：≤ф117mm
不均匀性：ф100mm内±5%
可使用的波长：g线、h线、I线的组合。根据用户要求，可增加I线滤光片。
成象面照明：光照度10～15毫瓦/厘米2,任意可调(出厂时,照明度调在10mw/cm2)。
4. 采用进口时间继电器（该继电器可从0.1秒∽999.9秒预设）控制气动快门，动作准确可靠。
5. 该机为接触式曝光机，但可实现：
a. 硬接触曝光：用管道真空来获得高真空接触。真空≤-0.05MPa。
b. 软接触曝光：接触压力可将真空降到-0.02MPa ～ -0.05MPa之间。
c. 微力接触曝光：小于软接触。真空≥-0.02MPa。
6. 分辩率估计：如果用户的“版”、“片”精度符合国家规定，环境、温度、湿度、尘埃得到严格控制，采用进口正性光刻胶，且匀胶厚度得到严格控制。加之前后工艺先进的话，硬接触曝光的小分辨度可达2μm以上
7.对准：观察系统为两个单筒显微镜上装二个CCD摄像头，通过视屏线连接到显视屏上
a. 单筒显微镜为0.7X～4.5X连续变倍显微镜（也可为1.6X～10X）。
b.CCD摄像机靶面对角线尺寸为：1/3，（6mm）;
c.采用19"液晶监视器，其数字放大倍率为19÷1/3=57倍；
d.观察系统放大倍数为：0.7×57≈40倍（倍数），4.5×57≈256倍（倍数）或（91倍～570倍）。
1. 对准台：（采用片动，版不动方式）
X、Y调整：±5mm。
2. θ调整：转角≤5°
对准间隙（分离间隙）0～5mm任意可调。
整个对准台相对于显微镜可作±20mm扫描运动。
“接触、分离”20μm情况下，片相对于版的“漂移量”，可调到≤±0.5μm。
8.设备所需能源：
主机电源： 220V±10% 50HZ
洁净空气≥0.4MPα。
真空：-0.07～－0.08MPα。
9.尺寸和重量：
尺寸：机体720 mm（长）×720 mm（宽）×882mm（高）。
重量：≤100Kg。
机体放在专用工作台上。
工作台:1100 mm（长）×750 mm（宽）×645 mm（高）。
高度可调范围0～30mm。
重量50Kg（工作台后侧装有电气部分）。
总重量≤200Kg
10.G-25XA型光刻机的组成
(1)主机
a. 主机（含机体和工作台）
b. 对准用单筒显微镜
c. 多点光源曝光头
（2）附件
a、主机附件：
3"□型掩版夹盘
4"□型掩版夹盘（出厂时安装到机器上）
5"□型掩版夹盘。
b、用于2"基片的真空夹持承片台。
用于3"基片的真空夹持承片台（出厂时安装到机器上）
用于4"基片的真空夹持承片台.（若需特殊的基片承片台，订货时用户提出）
C、显微镜组成：
单筒显微镜二个
两个CCD
