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技术要求 |
公 差 范 围 |
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刻画小线宽 |
1.5um |
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刻画大面积 |
180mm |
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刻画图案误差 |
±0.5um（根据刻画面积而定） |
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刻画深度 |
0.05um-10um（根据图案宽度而定） |
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刻画深度误差 |
±0.001um |
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材 料 |
硅、锗、硒化锌、硫化锌等红外材料 |
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我们可以根据客户要求，在红外材料抛光基片表面加工码盘,相位光栅,投射光栅，反射光栅、分划版,分辨率版等产品 |
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