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主要用途：
主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研
制和生产。
由于本机找平机构先进，找平力小、使本机适合硅片、玻璃片、陶瓷片、铜片、不锈钢片、宝石片等的曝光。
（1） 这是一台双面对准单面曝光的光刻机；
（2） 这台机器又能完成普通光刻机的任何工作；
（3） 同时又是一台检查双面对准精度的检查仪。
使用、维护和保养：
1、每日检查：这样做，可以使曝光机长期处于良好的工作状态。
（1） 测量成像面照度，调整光强到所需照度，并设定好所需时间。
（2） 清扫板架和承片台，使之无油、无尘、无硅渣等。
（3） 注意观察系统真空表所显示的真空度，是否≤-0.07Mpa，否则应检查管路系统，查明漏气原因，并设法排除。
（4） 查看进气源是否≥0.4Mpa，并将气动双联件输出调到0.3Mpa 。
（5） 本机不需水源，进电源为交流220V，使用维护简单。
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